KAOHSIUNG, 26. August 2026 /PRNewswire/ -- E&R Engineering Corp. (Börse Taipeh: 8027), ein Spezialist für Halbleiterlaser- und Plasmabearbeitungsanlagen, wird auf der SEMICON Taiwan 2026 seine neuesten Technologien vorstellen. Zu den Highlights zählen das hochpräzise Laserbohren für Fiber Array Units (FAUs), die Bearbeitung von Glaskernen und Through-Glass-Vias (TGVs), Anwendungen mit Glasträgern sowie das Laserbearbeitungssystem PHB-600A und das Hybrid-Plasmasystem R-300R.
Fünf-Achsen-FAU-Laserbohren mit einer Genauigkeit von ±0,5 μm
Um der wachsenden Nachfrage nach optischen Komponenten mit hoher Dichte in der Hochgeschwindigkeits-Optikkommunikation und im Bereich Co-Packaged Optics (CPO) gerecht zu werden, hat E&R eine hochpräzise FAU-Laserbearbeitungslösung entwickelt.
Der Schwerpunkt der Entwicklung liegt auf 2D-FAU-Konfigurationen, die Bandbreiten von 3,2 Tbit/s, 6,4 Tbit/s und 12,8 Tbit/s unterstützen. Durch die Kombination von fünfachsiger Lasersteuerung, Präzisionspositionierung und Mikrobearbeitung erreicht die Lösung eine Bohrgenauigkeit von ±0,5 μm und unterstützt verschiedene Lochgeometrien und Bearbeitungswinkel.
Bearbeitung von Glaskern- und Glasträgersubstraten
Da KI, HPC und fortschrittliche Verpackungstechnologien die Nachfrage nach hochdichten Verbindungen ankurbeln, gewinnen Glassubstrate für die Halbleiterindustrie immer mehr an Bedeutung.
E&R bietet Laserlösungen für Glaskern-Substrate und TGV an, die den Anforderungen an Genauigkeit, Prozessstabilität und Flexibilität gerecht werden. Für Glasträger-Anwendungen bietet das Unternehmen Entklebungs-, Oberflächenreinigungs- und Descum-Verfahren an, um Verunreinigungen und Polymerrückstände nach der vorübergehenden Trennung vom Träger zu entfernen.
E&R unterstützt zudem das hochpräzise Schneiden großformatiger Glasplatten sowie das ABF-Rillen für lane-definierte und andere fortschrittliche Verpackungsanwendungen. Durch die Integration von Laser- und Plasmatechnologien bietet das Unternehmen Lösungen für die Materialbearbeitung, das Präzisionsschneiden und die nachgelagerte Oberflächenbehandlung.
Die Kerntechnologien von E&R: Laser und Plasma
Der PHB-600A ist für großformatige Glasplatten und die hochpräzise Laserbearbeitung ausgelegt und erfüllt die Anforderungen fortschrittlicher Verpackungstechnologien hinsichtlich Bearbeitungsflächen, hoher Genauigkeit und konstanter Leistung.
Der R-300R verfügt über ein hybrides MW–HF-Plasmasystem mit unabhängig voneinander gesteuerten Mikrowellen- (MW) und Hochfrequenz- (HF) Leistungsquellen, was eine flexible Prozessanpassung an unterschiedliche Materialien und Anwendungen ermöglicht. Er unterstützt schadensarme Oberflächenaktivierung, Reinigung, Entschleimung, Entschmierung und tiefes Siliziumätzen für die Halbleiterfertigung, fortschrittliche Verpackungstechniken und Materialien der nächsten Generation.
Im Rahmen seiner Plattform „Laserpräzision × Plasmatechnologie × Prozessintegration" liefert E&R hochpräzise Anlagen und integrierte Lösungen für die Halbleiterfertigung, fortschrittliche Verpackungstechniken, optische Kommunikation, Glasbearbeitung und Präzisionsmikrobearbeitung – und unterstützt Kunden von der Validierung in der Forschung und Entwicklung bis hin zur Entwicklung im Produktionsmaßstab.
E&R auf der SEMICON Taiwan 2026
Termine: 2.–4. September 2026
Veranstaltungsort: Taipei Nangang Exhibition Center, Halle 1, 4. Etage
Stand: M1048
Website: https://en.enr.com.tw/
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Eine anonyme E-Mail an die US-Botschaft in Bern hat kurz vor dem Auftritt von US-Präsident Donald Trump beim Weltwirtschaftsforum in Davos ein Ermittlungsverfahren der Schweizer Bundesanwaltschaft ausgelöst – und zur Festnahme einer WEF-Mitarbeiterin geführt. Inzwischen ist klar: Die gegen die IT-Expertin erhobenen Vorwürfe eines geplanten Attentats waren nicht zu belegen. Die Bundesanwaltschaft teilte mit, die in der Sache eröffneten Ermittlungen wegen strafbarer Vorbereitungshandlungen zu einem Mord seien eingestellt worden.
Die Warnmail war laut Medienberichten der Tamedia-Gruppe wenige Stunden vor Trumps Rede eingegangen. Der anonyme Absender schilderte in fehlerhaftem Englisch eine angeblich „dringliche Bedrohung“ für das Leben des US-Präsidenten in Davos und bezeichnete die später festgenommene Frau iranischer Herkunft als Agentin, die eine entsprechende Operation koordiniert habe. Die US-Botschaft leitete den Hinweis an die Schweizer Behörden weiter; diese erklärten, sie hätten die Warnung „sehr ernst“ genommen und seien „sofort aktiv“ geworden.
Tatsächlich arbeitete die Beschuldigte nicht am Tagungsort in Davos, sondern in der WEF-Zentrale im Genfer Vorort Cologny. Dort wurde sie nach Angaben der Bundesanwaltschaft festgenommen, mehrere Stunden lang bis tief in die Nacht vernommen und ihre Telefone sowie ihr Computer wurden beschlagnahmt und ausgewertet. Im Zuge dieser Maßnahmen habe sich jedoch gezeigt, dass sich keiner der in der anonymen E-Mail erhobenen Punkte erhärten ließ. Für alle Aspekte der Anschuldigungen seien keine Beweise gefunden worden, hieß es zur Begründung für die Einstellung des Verfahrens.
Die betroffene Mitarbeiterin, eine gebürtige Iranerin, war nach den Medienberichten kurz nach dem Vorfall beim WEF nicht mehr beschäftigt. Zu den Gründen äußerte sich die Organisation nicht; auf entsprechende Anfragen gab es zunächst keine Stellungnahme. Damit bleiben nach dem spektakulären Fehlalarm vorerst Fragen offen – etwa zur Herkunft und Glaubwürdigkeit des anonymen Hinweises –, während die Schweizer Strafverfolger den Fall strafrechtlich abgeschlossen haben.
